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當前(qian)位置(zhi):首(shou)頁(ye) > 產(chan)品中心 > 氣(qi)體(ti)發生(sheng)器 > 氫氣(qi)發生(sheng)器 > AYAN-H500ml色譜常用(yong)高純(chun)氫水分(fen)離(li)裝置(zhi)小(xiao)型(xing)氫氣(qi)發生(sheng)器




簡要(yao)描(miao)述:色譜常用(yong)高純(chun)氫水分(fen)離(li)裝置(zhi)小(xiao)型(xing)氫氣(qi)發生(sheng)器AYAN-H500ml由(you)電解池(chi)、純水箱、氫/水分(fen)離(li)器、收集(ji)器、幹燥(zao)器、傳(chuan)感(gan)器、壓(ya)力(li)調節(jie)閥(fa)、開(kai)關電源等(deng)部件(jian)組(zu)成(cheng)。
更新(xin)時(shi)間(jian):2021-08-02
產(chan)品型(xing)號(hao):AYAN-H500ml
廠(chang)商性(xing)質:生產(chan)廠(chang)家(jia)
訪 問(wen) 量(liang): 2258產(chan)品分(fen)類(lei)
Product Category相(xiang)關文章(zhang)
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▶產(chan)品特征:
1操(cao)作簡(jian)便(bian),日(ri)常使(shi)用只(zhi)需補(bu)充(chong)蒸(zheng)餾水,啟動(dong)電源開(kai)關即可(ke)產(chan)氫氣(qi)。
2氣(qi)路(lu)部(bu)分(fen)全部采(cai)用(yong)不銹(xiu)鋼(gang)管(guan),電解拋(pao)光,超(chao)音(yin)清(qing)洗(xi),設(she)有(you)過壓(ya)保護裝置(zhi),兩級凈(jing)化。
3*的(de)防返液裝(zhuang)置(zhi),確(que)保儀(yi)器*返液現(xian)象。
4電解材(cai)料選(xuan)用(yong)進口(kou)特制(zhi)貴(gui)金(jin)屬(shu),有(you)效的(de)提高電解效率恒(heng)定池(chi)體溫(wen)度,促使(shi)電解池(chi)使(shi)用壽命(ming)大(da)大(da)提高。
5輸(shu)出(chu)流(liu)量(liang)穩(wen)定(ding),自動跟(gen)蹤,純(chun)度不衰(shuai)減(jian),可連(lian)續(xu)使(shi)用。
▶技(ji)術(shu)參數:
型(xing)號(hao): | AYAN-H300ml | AYAN-H500ml | AYAN-H1000ml |
氫氣(qi)純(chun)度: | ≥99.999% | ||
輸出(chu)流(liu)量(liang): | 0-300ml∕min | 0-500ml∕min | 0-1000ml∕min |
輸(shu)出(chu)壓(ya)力(li): | 0-0.4Mpa可調(出(chu)廠(chang)設定(ding)0.3Mpa) | ||
工作電源: | 220V±10%﹔50HZ±5% | ||
最(zui)大(da)功(gong)率: | 80W | 120W | 180W |
環(huan)境條(tiao)件: | 環(huan)境濕度:0-50℃﹔相對(dui)濕(shi)度:≤85% | ||
外(wai)形尺(chi)寸(cun): | 310*190*360mm | ||
輸出(chu)接(jie)口(kou): | 1/8英(ying)寸(cun)/Φ3或其他 | ||
補水方式(shi) | 自動補水/ 手動(dong)加(jia)水 | ||
機器重(zhong)量(liang): | 10Kg | 12Kg | |
機(ji)器類(lei)型(xing): | HOK加堿型(xing) | ||
電解水制氫純(chun)水是電的(de)不良(liang)導體水的(de)電阻超(chao)過10歐(ou),所以電解水制氫時(shi)要(yao)在水中加人電解質來增(zeng)大(da)水的(de)導電性(xing)。氫氣(qi)發生(sheng)器原則(ze)上加(jia)人(ren)任何(he)可溶(rong)的(de)酸(suan)、堿、鹽(yan)都可以(yi)使(shi)水導電,但酸(suan)對電極和電解槽(cao)有腐蝕性(xing),鹽(yan)會在電解時(shi)產(chan)生副(fu)產(chan)物(wu),所以壹般電解水操(cao)作都用15%氫氧(yang)化(hua)鉀作電解液(ye)。
色譜常用(yong)高純(chun)氫水分(fen)離(li)裝置(zhi)小(xiao)型(xing)氫氣(qi)發生(sheng)器AYAN-H500ml作為(wei)電解水電極的(de)理(li)想(xiang)金(jin)屬(shu)是鉑系(xi)金(jin)屬(shu),但(dan)遺憾的(de)是這(zhe)些金(jin)屬(shu)都很昂(ang)貴,在實際工作中無法采用(yong)。不過人(ren)們(men)發現(xian)鎳電極的(de)活性(xing)不亞(ya)於(yu)鉑系(xi)金(jin)屬(shu),所以現(xian)在通用的(de)水電解槽(cao)都采用(yong)鎳(nie)電極,並(bing)且發現(xian)如(ru)果(guo)在鎳電極表(biao)面上接(jie)鍍(du)極(ji)微(wei)量(liang)鉑(bo),就會使(shi)電極上析(xi)出(chu)的(de)氫原(yuan)子(或氧(yang)原子)有更快的(de)結(jie)合成(cheng)分(fen)子的(de)速度,增(zeng)大(da)了(le)電解效率。為(wei)了(le)降(jiang)低(di)設(she)備(bei)和生(sheng)產(chan)成(cheng)本(ben),又(you)常用(yong)遮鋇鎳的(de)鐵(tie)電極。電解時(shi)兩電極之間施加的(de)電壓(ya)約(yue)為直(zhi)流(liu)1.8v。
在實驗室(shi)中使(shi)用的(de)壹般有(you)堿性(xing)電解槽(cao)制氫和聚(ju)合物(wu)薄膜電解槽(cao)制氫。

1 使(shi)用堿性(xing)電解槽(cao)制氫
堿性(xing)電解槽(cao)是常用(yong)、技(ji)術(shu)成(cheng)熟(shu)、也(ye)經(jing)濟的(de)電解槽(cao),並(bing)且易於操(cao)作,在目前(qian)使(shi)用,但(dan)缺點是其效率低(di)。堿性(xing)電解槽(cao)主要(yao)由(you)電源、電解槽(cao)箱體、電解液(ye)、陰(yin)極(ji)、陽極(ji)和橫隔(ge)膜組(zu)成(cheng)。電解液(ye)都是氫氧(yang)化(hua)鉀溶(rong)液(KOH),濃度為20%~30%;橫隔(ge)膜主要(yao)由(you)石棉組(zu)成(cheng),主(zhu)要(yao)起(qi)分(fen)離(li)氣(qi)體(ti)的(de)作用(yong),而兩個電極則(ze)主要(yao)由(you)金(jin)屬(shu)合(he)金(jin)組(zu)成(cheng)。
其工作的(de)主(zhu)要(yao)原(yuan)理(li)是:在陰(yin)極(ji),水分(fen)子被分(fen)解為氫離(li)子(H+)和氫氧(yang)根(gen)離(li)子(OH-),氫離(li)子得到電子生成(cheng)氫原(yuan)子,並(bing)進壹步生(sheng)成(cheng)氫分(fen)子(H2);氫氧(yang)根(gen)離(li)子(OH-)則(ze)在陰(yin)、陽極(ji)之間的(de)電場(chang)力作用(yong)下(xia)穿(chuan)過多孔(kong)的(de)橫隔(ge)膜,到達陽極(ji),在陽極(ji)失(shi)去(qu)電子生成(cheng)壹個水分(fen)子和氧(yang)分(fen)子。
堿性(xing)電解槽(cao)制氫的(de)特點是:氫氧(yang)根(gen)離(li)子(OH-)在陰(yin)、陽極(ji)之間的(de)電場(chang)力作用(yong)下(xia)穿(chuan)過多孔(kong)的(de)橫隔(ge)膜。
2 聚合(he)物(wu)薄膜電解槽(cao)制氫
聚(ju)合(he)物(wu)薄膜電解槽(cao)制氫(PEM),壹些地(di)方也(ye)稱(cheng)之為固(gu)體(ti)聚合物(wu)電解質(SPE)水電解制(zhi)氫。該(gai)種原理(li)不需(xu)電解液(ye),只(zhi)需純(chun)水,比堿性(xing)電解槽(cao)安全(quan),電解槽(cao)的(de)效率可(ke)以達到85%或以(yi)上,但(dan)由(you)於在電極處使(shi)用鉑(bo)等(deng)貴(gui)重(zhong)金(jin)屬(shu),薄膜材(cai)料也(ye)是昂貴(gui)的(de)材(cai)料,故(gu)PEM電解槽(cao)目前(qian)還(hai)難(nan)以投(tou)人大(da)規(gui)模(mo)的(de)使(shi)用。
其工作的(de)主(zhu)要(yao)原(yuan)理(li)是:去離(li)子水被供(gong)到(dao)膜壹電極組(zu)件上,在陽極(ji)側(ce)反應析(xi)出(chu)氧(yang)氣(qi)、氫離(li)子和電子;電子通過電路(lu)傳(chuan)遞到(dao)陰(yin)極(ji),氫離(li)子以水合的(de)形(xing)式(H+·XH20)通過離(li)子交換膜到陰(yin)極(ji);在陰(yin)極(ji),氫離(li)子和電子重(zhong)新(xin)結(jie)合形(xing)成(cheng)氫氣(qi),同(tong)時(shi),部(bu)分(fen)水也帶到了(le)陰(yin)極(ji)。

色譜常用(yong)高純(chun)氫水分(fen)離(li)裝置(zhi)小(xiao)型(xing)氫氣(qi)發生(sheng)器AYAN-H500ml聚合(he)物(wu)薄膜電解槽(cao)制氫的(de)特點是:氫離(li)子(H+)在陰(yin)、陽極(ji)之間的(de)電場(chang)力作用(yong)下(xia)穿(chuan)過離(li)子交換膜。 為了(le)將(jiang)陰(yin)極(ji)上放(fang)出(chu)的(de)氫氣(qi)與陽極(ji)上放(fang)出(chu)的(de)氧(yang)氣(qi)分(fen)開(kai)以取(qu)得純凈(jing)氣(qi)體(ti),也為(wei)了(le)避(bi)免(mian)氫氣(qi)與氧氣(qi)互(hu)相混(hun)合(he)造(zao)成(cheng)意外(wai)事k,I陰(yin)極(ji)與陽極(ji)之間應用隔(ge)膜分(fen)開(kai),分(fen)成(cheng)為(wei)陰(yin)極(ji)室(shi)和陽極(ji)室(shi),分(fen)別用導管並(bing)聯(lian)把發生(sheng)的(de)氣(qi)體(ti)導出(chu)。隔(ge)膜常用(yong)以鎳鉻(ge)絲(si)為(wei)襯(chen)底(di)骨(gu)架(jia)的(de)石棉布,此(ci)隔(ge)膜布的(de)微(wei)孔允許(xu)K+和OH壹離(li)子通過,但(dan)又(you)使(shi)電解液(ye)在微(wei)孔處有(you)足(zu)夠大(da)的(de)表(biao)面張(zhang)力,可(ke)以(yi)防止氣(qi)體(ti)滲過。
氫氣(qi)發生(sheng)器是如(ru)何(he)產(chan)生氫氣(qi)的(de),它主(zhu)要(yao)有(you)兩種不同(tong)的(de)工作原(yuan)理(li),針對(dui)這(zhe)兩種不同(tong)工作原(yuan)理(li)進行簡(jian)易(yi)的(de)比(bi)較。
壹、純水電解制(zhi)氫
把(ba)滿(man)足(zu)要(yao)求的(de)電解水(電阻率(lv)大(da)於(yu)1MΩ/cm,電子或分(fen)析(xi)行業(ye)用的(de)去(qu)離(li)子水或二(er)次(ci)蒸(zheng)餾水皆可)送(song)入(ru)電解槽(cao)陽極(ji)室(shi),通(tong)電後水便立(li)刻(ke)在陽極(ji)分(fen)解:2H2O=4H++2O-2,分(fen)解成(cheng)的(de)負氧離(li)子(O-2),隨(sui)即在陽極(ji)放(fang)出(chu)電子,形成(cheng)氧(yang)氣(qi)(O2),從陽極(ji)室(shi)排(pai)出(chu),攜(xie)帶部份(fen)水進入(ru)水槽,水可循(xun)環(huan)使(shi)用,氧(yang)氣(qi)從水槽上蓋(gai)小(xiao)孔放(fang)入(ru)大(da)氣(qi)。氫質子以水合離(li)子(H+?XH2O)形式(shi)在電場(chang)力的(de)作用(yong)下(xia),通(tong)過SPE離(li)子膜,到達陰(yin)極(ji)吸收電子形成(cheng)氫氣(qi),從陰(yin)極(ji)室(shi)排(pai)出(chu)後,進入(ru)氣(qi)水分(fen)離(li)器,在此(ci)除(chu)去(qu)從電解槽(cao)攜(xie)帶出(chu)的(de)大(da)部(bu)分(fen)水份(fen),含(han)微(wei)量(liang)水份(fen)的(de)氫氣(qi)再經(jing)幹燥(zao)器吸濕(shi)後,純度便達到99.999%以上。
二(er)、堿液電解制(zhi)氫
這(zhe)個(ge)工作原(yuan)理(li)是傳(chuan)統隔(ge)膜堿液電解法。電解槽(cao)內的(de)導電介質是為氫氧(yang)化(hua)鉀水溶液(ye),兩極室(shi)的(de)分(fen)隔(ge)物(wu)是為航(hang)天電解設(she)備(bei)用隔(ge)膜,與端板合(he)為壹體的(de)耐(nai)蝕、傳(chuan)質良(liang)好的(de)格(ge)柵(zha)電極等(deng)組(zu)成(cheng)電解槽(cao)。向兩極施加直(zhi)流(liu)電之後,水分(fen)子在電解槽(cao)的(de)兩極立(li)刻(ke)發生(sheng)電化學(xue)反應,在陽極(ji)產(chan)生了(le)氧(yang)氣(qi),在陰(yin)極(ji)產(chan)生了(le)氫氣(qi)。反(fan)應式如(ru)下(xia):陽極(ji):2OH--2e→H2O+1/2O2↑陰(yin)極(ji):2H2O+2e→2OH-+H2↑總反應式:2H2O→2H2↑+O2↑本(ben)儀(yi)器對壓(ya)控(kong)、過壓(ya)保護、流(liu)量(liang)顯(xian)示、流(liu)量(liang)追(zhui)蹤(zong)等均實行自(zi)動(dong)控制(zhi);使(shi)輸出(chu)氫氣(qi)能在恒壓(ya)下(xia),根據(ju)氣(qi)相(xiang)色譜儀(yi)用氫氣(qi)量(liang),實現(xian)全自(zi)動調節(jie)(在產(chan)氣(qi)量(liang)範(fan)圍(wei)內(nei))。

當打(da)開(kai)高純(chun)氫氣(qi)發生(sheng)器時(shi),請用原料氫氣(qi)替(ti)換(huan)系(xi)統(tong),然後從閥(fa)上排(pai)氣(qi)。更換系(xi)統(tong)中的(de)高純(chun)度氮氣(qi)後,可以(yi)使(shi)用用(yong)戶在原料中的(de)氫含(han)量(liang)和所需的(de)高純(chun)度氫。選(xuan)擇(ze)工作溫(wen)度,工作壓(ya)力(li)和吹掃氣(qi)體(ti)量(liang),然(ran)後通電加熱(re)鈀管,以(yi)從閥(fa)中流(liu)出(chu)高純(chun)度氫氣(qi)。這(zhe)三(san)點在使(shi)用過程(cheng)中需要(yao)註(zhu)意。
1、系(xi)統(tong)保護
高純(chun)氫氣(qi)發生(sheng)器需要(yao)原(yuan)始(shi)保護,即壓(ya)力(li)保護,當在線幹(gan)燥(zao)塔(ta)與系統(tong)之間的(de)壓(ya)力(li)差(cha)大(da)於(yu)17psi時(shi),它將(jiang)不切(qie)換(huan),並(bing)且幹燥(zao)系統(tong)將(jiang)重(zhong)復沖(chong)壓(ya)以(yi)使(shi)其在線。幹(gan)燥(zao)塔(ta)的(de)壓(ya)力(li)值無限(xian)接(jie)近(jin)系(xi)統(tong)壓(ya)力(li)值,在至(zhi)少低(di)於17psi。
2、切換方向性(xing)
原(yuan)始(shi)切(qie)換設備(bei)無法在外(wai)部看到(dao)詳細(xi)的(de)切(qie)換方向。您(nin)只(zhi)能通(tong)過觸(chu)摸(mo)屏(ping)上的(de)顯(xian)示屏(ping)來判斷哪(na)個(ge)幹燥(zao)塔(ta)在線,以(yi)及(ji)哪個(ge)幹燥(zao)塔(ta)是再生的(de)。升(sheng)級後,在調節(jie)控(kong)制(zhi)器外(wai)部有(you)指(zhi)向坐(zuo)標(biao),可以(yi)直(zhi)接(jie)判斷在線幹(gan)燥(zao)塔(ta)和再生幹燥(zao)塔(ta),但(dan)是在需要(yao)安(an)裝(zhuang)時(shi),初(chu)始(shi)位置(zhi)設置(zhi)與調節(jie)器和四個調節(jie)器的(de)註(zhu)冊(ce)方向相(xiang)同(tong)。
3、切(qie)換(huan)時(shi)間(jian)
高純(chun)氫氣(qi)發生(sheng)器的(de)原(yuan)電機即(ji)時(shi)切(qie)換(huan),動作迅(xun)速。升(sheng)級後,調節(jie)器開(kai)關要(yao)花(hua)費(fei)150秒,這(zhe)比(bi)原(yuan)始(shi)電動機(ji)要(yao)長(chang),但(dan)開(kai)關平穩(wen)且系統壓(ya)力(li)不會波動(dong)太(tai)大(da)。升(sheng)級後,從頭開(kai)始設(she)置(zhi)程序中的(de)電磁閥(fa)打(da)開(kai)時(shi)間(jian),否則(ze)在切換過程(cheng)中將其打(da)開(kai)壹次(ci),壓(ya)力(li)保護將立(li)即關閉(bi),但這(zhe)也(ye)只(zhi)會導致(zhi)系統出(chu)口(kou)壓(ya)力(li)掉(diao)落(luo),這(zhe)很可(ke)能導致(zhi)較低級別的(de)設(she)備(bei)(壓(ya)縮(suo)機)跳機(ji)。
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