供應色譜(pu)儀(yi)氫(qing)氣(qi)發生器(qi)電解蒸(zheng)餾水制氫機(ji)

▶產品(pin)特征：

1操作(zuo)簡便(bian)，日(ri)常使用(yong)只需補(bu)充(chong)蒸餾(liu)水，啟動電源開(kai)關即(ji)可(ke)產(chan)氫(qing)氣。

2氣路部(bu)分全部(bu)采(cai)用(yong)不(bu)銹鋼管(guan)，電解拋(pao)光，超(chao)音(yin)清(qing)洗(xi)，設有過(guo)壓保(bao)護(hu)裝置(zhi)，兩(liang)級(ji)凈化(hua)。

3*的(de)防(fang)返(fan)液(ye)裝(zhuang)置(zhi)，確(que)保(bao)儀器(qi)*返(fan)液(ye)現象。

4電解材(cai)料(liao)選用進口(kou)特制貴金屬(shu)，有效(xiao)的(de)提高電解效(xiao)率(lv)恒定池體(ti)溫度(du)，促(cu)使電解池使用(yong)壽命大大(da)提高。

5輸(shu)出流量穩定，自(zi)動跟蹤(zong)，純度(du)不(bu)衰減，可(ke)連(lian)續使用(yong)。

　　高純氫(qing)氣(qi)發生器(qi)若(ruo)出現產氫(qing)不(bu)足的(de)現象時(shi)，應(ying)該這樣(yang)做：
　　壹(yi)、該(gai)氫(qing)氣(qi)發生器(qi)產(chan)氫達(da)不到預(yu)定(ding)的(de)壓力，即(ji)儀器顯(xian)示(shi)量超(chao)出實際(ji)使用(yong)量較大
　　故(gu)障(zhang)原因(yin)：氣(qi)路(lu)系統(tong)漏(lou)氣、過(guo)濾器或過(guo)濾器上(shang)蓋沒(mei)有擰(ning)緊(jin)、氫(qing)氣(qi)電解池反(fan)漏。
　　檢(jian)查(zha)方(fang)法：用(yong)檢漏(lou)液檢測(ce)各(ge)氣(qi)路連(lian)接處。
　　排除(chu)方(fang)法：更換(huan)漏氣(qi)元件、擰(ning)緊(jin)漏(lou)氣(qi)點(dian)、聯系(xi)廠(chang)價(jia)更換(huan)電解池。

　　電解水制氫純水是(shi)電的(de)不良(liang)導體水的(de)電阻超(chao)過(guo)10歐(ou)，所以(yi)電解水制氫時(shi)要在水中加(jia)人(ren)電解質(zhi)來增(zeng)大(da)水的(de)導電性。氫(qing)氣發生器(qi)原(yuan)則上(shang)加人(ren)任何可溶的(de)酸(suan)、堿、鹽(yan)都(dou)可以使水導電，但酸(suan)對電極和(he)電解槽(cao)有腐蝕性(xing)，鹽(yan)會(hui)在電解時(shi)產生副(fu)產(chan)物，所以(yi)壹般(ban)電解水操作(zuo)都(dou)用15%氫氧(yang)化(hua)鉀(jia)作(zuo)電解液(ye)。
　　作(zuo)為電解水電極的(de)理(li)想(xiang)金屬(shu)是(shi)鉑系(xi)金屬(shu)，但遺憾的(de)是(shi)這些金屬(shu)都(dou)很(hen)昂貴，在實際(ji)工(gong)作(zuo)中無(wu)法(fa)采用(yong)。不過(guo)人們發現鎳電極的(de)活(huo)性不亞於鉑系(xi)金屬(shu)，所以(yi)現在通用(yong)的(de)水電解槽(cao)都(dou)采用鎳(nie)電極，並(bing)且發現如果(guo)在鎳電極表(biao)面(mian)上(shang)接鍍極(ji)微量(liang)鉑，就(jiu)會(hui)使電極上(shang)析出的(de)氫原(yuan)子(zi)(或氧(yang)原子(zi))有更快的(de)結合(he)成(cheng)分子(zi)的(de)速(su)度(du)，增(zeng)大(da)了(le)電解效(xiao)率(lv)。為了(le)降低(di)設備(bei)和(he)生產(chan)成(cheng)本(ben)，又常用(yong)遮(zhe)鋇鎳的(de)鐵電極。電解時(shi)兩電極之(zhi)間(jian)施(shi)加(jia)的(de)電壓約(yue)為(wei)直(zhi)流1.8v。
　　為了(le)將(jiang)陰(yin)極上(shang)放出的(de)氫氣(qi)與陽極(ji)上(shang)放出的(de)氧(yang)氣分開(kai)以(yi)取(qu)得純凈氣(qi)體(ti)，也為了(le)避(bi)免氫(qing)氣(qi)與氧(yang)氣互(hu)相(xiang)混(hun)合造成(cheng)意外事(shi)k,I陰(yin)極與(yu)陽極(ji)之(zhi)間(jian)應用(yong)隔膜(mo)分開(kai)，分成(cheng)為陰(yin)極室(shi)和(he)陽(yang)極(ji)室(shi)，分別用導管(guan)並(bing)聯把(ba)發生的(de)氣體(ti)導出。隔膜(mo)常用(yong)以(yi)鎳鉻絲為(wei)襯底骨架的(de)石(shi)棉(mian)布(bu)，此(ci)隔膜(mo)布(bu)的(de)微孔(kong)允許K+和(he)OH壹(yi)離子(zi)通過(guo)，但又使電解液(ye)在微孔(kong)處有足夠大的(de)表(biao)面(mian)張(zhang)力，可(ke)以防(fang)止(zhi)氣(qi)體(ti)滲過(guo)。
　　二、本(ben)產品(pin)不(bu)能啟動：故(gu)障(zhang)原因(yin)有電路沒(mei)有接通、氫(qing)氣(qi)開關電源損(sun)壞、在壓力為(wei)0空載運行時(shi)電解池燒(shao)壞
　　檢(jian)查(zha)方(fang)法：檢(jian)查(zha)電路、用(yong)萬用表(biao)測(ce)量(liang)電解池的(de)電壓是(shi)否在2.3V左右(you)。
　　排除(chu)方(fang)法：修(xiu)理(li)電源、更換(huan)損壞的(de)氫氣(qi)開關電源、更換(huan)電解池。
　　高(gao)純氫(qing)氣(qi)發生器(qi)將(jiang)的(de)科(ke)學(xue)技術(shu)與(yu)自身(shen)的(de)技術(shu)實(shi)力相(xiang)結合(he)，供應色譜(pu)儀(yi)氫(qing)氣(qi)發生器(qi)電解蒸(zheng)餾水制氫機(ji)AYAN-H300ml智能開發新產(chan)品(pin)，不(bu)斷更新換(huan)代。采用(yong)桶(tong)形電解槽(cao)。純水制氫機(ji)電解面(mian)積大(da)，槽溫低(di)，產(chan)氣量(liang)大，純度(du)高(gao)。*的(de)自動(dong)回(hui)液(ye)裝(zhuang)置(zhi)，*解(jie)決(jue)了回(hui)液(ye)問(wen)題，可為(wei)國(guo)內(nei)外(wai)各(ge)類氣相色譜(pu)儀(yi)提供氣體或載氣。 

檢查(zha)TC3
氧(yang)中氫(qing)監(jian)測探(tan)頭。
A/查(zha)看內部(bu)催(cui)化(hua)劑(ji)有無失(shi)效(xiao)，
B/檢(jian)查(zha)連(lian)接線路(lu)有無需連(lian)現象。
C/查(zha)看PLC溫度(du)模(mo)塊有無異(yi)常。
檢(jian)查(zha)氫(qing)氣捕集器(qi)
A/如設備(bei)運行停(ting)機(ji)在壹個(ge)月(yue)以(yi)上(shang)需要對(dui)氫氣(qi)捕集器(qi)內透(tou)水阻氣隔(ge)膜(mo)（石(shi)棉(mian)膜(mo)）進(jin)行(xing)檢(jian)查(zha)，因(yin)停(ting)機(ji)比(bi)較久(jiu)石(shi)棉(mian)膜(mo)會(hui)自(zi)身(shen)變幹(gan)，不能全部(bu)潤濕也會造成(cheng)氫側(ce)氣(qi)體(ti)串入氧(yang)側(ce)，造成(cheng)氧(yang)中氫(qing)溫度(du)高(gao)的(de)顯(xian)現。
B/石(shi)綿(mian)膜(mo)穿(chuan)透(tou)造成(cheng)氫氣(qi)氧(yang)氣混(hun)合(he)。
以(yi)上(shang)原因(yin)檢查(zha)更換(huan)石(shi)綿(mian)膜(mo)。
供應色譜(pu)儀(yi)氫(qing)氣(qi)發生器(qi)電解蒸(zheng)餾水制氫機(ji)AYAN-H300ml檢查(zha)FC1流量控(kong)制器調節閥有無失(shi)效(xiao)，檢(jian)查(zha)流量計(ji)內流量大(da)小是(shi)否正(zheng)常。正(zheng)常值(zhi)為(wei)75—100微量(liang)表(biao)值(zhi)，如(ru)流量過(guo)大也會造成(cheng)氧(yang)中氫(qing)溫度(du)過(guo)高。
4，檢(jian)查(zha)TC4環(huan)境(jing)溫度(du)熱(re)電偶有無失(shi)效(xiao)。
5，開(kai)機後(hou)多(duo)次(ci)吹(chui)掃後(hou)有無改(gai)變。
6，檢(jian)查(zha)電解槽(cao)
對電解槽(cao)進行(xing)穿(chuan)透(tou)內漏(lou)性(xing)實驗(yan)，判斷電解槽(cao)有無內(nei)漏(lou)。
7，如電解槽(cao)穿(chuan)透(tou)內漏(lou)性(xing)實驗(yan)證明(ming)電解槽(cao)無內(nei)漏(lou)，綜(zong)上(shang)所述(shu)所有分析(xi)點(dian)均檢(jian)查(zha)無(wu)異常，設備(bei)仍然(ran)有氧(yang)中氫(qing)溫度(du)高(gao)現象產(chan)生，可(ke)以(yi)判斷氫(qing)氣(qi)發生器(qi)電解槽(cao)有輕(qing)微泄(xie)漏現象根(gen)據特利(li)丹氫(qing)氣(qi)發生器(qi)運行數(shu)據標(biao)準氧(yang)中氫(qing)溫度(du)報警值(zhi)200以(yi)內仍可(ke)以(yi)正常運行，但運行期(qi)間(jian)要對(dui)設備(bei)進(jin)行(xing)定(ding)期(qi)巡(xun)查(zha)。 

▶技術(shu)參(can)數(shu)：